光電技術(shù)研究所薄膜光學(xué)技術(shù)研究室在低缺陷密度紅外薄膜制備工藝方面取得進(jìn)展：通過(guò)優(yōu)化紅外薄膜的鍍膜工藝，硫化鋅/氟化鐿多層膜的缺陷密度顯著降低。
紅外薄膜的缺陷是影響紅外薄膜光學(xué)性能和其穩(wěn)定性的重要因素，越來(lái)越受到國(guó)內(nèi)外相關(guān)研究人員的關(guān)注。光電所研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)優(yōu)化沉積沉積速率、沉積溫度和沉積方式，顯著降低了多層紅外薄膜的缺陷：多層紅外薄膜的缺陷密度降低了一個(gè)數(shù)量級(jí)。采用低缺陷密度工藝參數(shù)制備的164nm高反射膜，反射率大于99.9%，吸收小于100ppm。
該研究成果發(fā)表于Surface & Coatings Technology, 320(2017)。
Fig.1 Reflectance spectra of 1064nm high-reflectance coating
圖1 1064nm高反射膜的反射率光譜
Fig.2 Absorption of 1064nm high-reflectance coating
圖2 1064nm高反射膜的吸收