光學鍍膜完成的大口徑反射光學元件光譜（反射率）非均勻性是非常重要的技術參數，必須滿足一定的技術要求才能用于系統(tǒng)中，因此必須具備相應的測試手段對大口徑反射元件的反射率（非）均勻性進行準確測量，從而保證用于系統(tǒng)中反射光學元件的質量，滿足系統(tǒng)正常運行。 

　　中國科學院光電技術研究所薄膜光學測試研究團隊建立了基于頻率選擇性光反饋光腔衰蕩技術的高速、高精度、高空間分辨率大口徑反射光學元件反射率及其均勻性測試原型樣機，目前已用于國家工程任務中大口徑反射元件的測試評估和質量控制，為大口徑反射光學元件制備的工藝優(yōu)化提供了測試技術平臺。  

　　該測試技術取得的主要技術突破是實現(xiàn)了大口徑反射元件反射率分布的二維高分辨成像測量，最大測量口徑達到300×450mm，當R>99.99%時，反射率重復性精度優(yōu)于±0.002%，反射率絕對測量精度優(yōu)于±0.005%。可提供反射率測量的時間指數衰減擬合曲線和鏡面反射率掃描的三維測試結果。 

　　該測試裝置已經為大口徑反射光學元件的反射率及其均勻性提供了高速、高精度、高空間分辨率的二維掃描反射率檢測、對大口徑光學元件反射率的評估和優(yōu)化起到重要技術支持，成為國家高技術項目質量控制必要的測試技術平臺之一。 

　　以上研究得到了中國科學院科研裝備項目的資助。